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            scia Mill 200

            scia Mill 200适用于在多种材料的复杂多层膜上进行微结构刻蚀,最大样品尺寸可达直径200mm。该系统对活性气体相容,能够进行反应蚀刻工艺以提高刻蚀选择比和刻蚀速率。scia Mill 200采用灵活的??榛杓?,可以有单样品的适合研发的版本,也可以进行组合式布局最多至3个工作仓和2个晶圆载具load-lock,以适合批量生产。

            常规属性

            - 采用圆形离子源对全部样品区域在惰性或反应气体环境下进行刻蚀

            - 可进行离子束刻蚀(IBE、IBM)、反应离子束刻蚀(RIBE)和化学辅助离子束刻蚀(CAIBE)

            - 刻蚀角度调整:样品台可以旋转且倾斜可调

            - 离子束具有极好准直性,垂直入射刻蚀时,无需修正挡板亦可获得极好的均匀性

            - 通过反应气体可以提高刻蚀速率,并控制刻蚀选择性

            - 通过基于SIMS(二次离子质谱)或光学的截止点探测技术控制工艺

            - 可以刻蚀光刻胶晶圆,具有良好的样品冷却配置

            - 在不同的组合式布局中可以进行全自动载具操作。

            - 可以适合各种倾斜光栅的刻蚀研发与生产

            系统性能

            scia Mill 200

            样品尺寸

            ф200mm

            样品夹具

            水冷,氦背板冷却

            转速:5 - 20 rpm

            倾斜:0° - 175°

            步长:0.1°

            离子源

            ф350mm圆形射频源RF350-e

            中和器

            RF等离子体桥中和器N-RF

            参考刻蚀速率

            Pt:  35 nm/min

            Cu:  44 nm/min

            W:   17 nm/min

            SiO2: 20nm/min

            刻蚀均匀性

            ≦ 1% (σ/mean)

            产能

            12 Wafer/h (100 nm SiO2 on 200 mm wafer)   

            基础真空度

            5 x 10-7 mbar

            尺寸(不含电柜与真空泵)       

            3.2 m x 2.5 m x 2.5 m (3个工作仓 + 晶圆载具)                  

            软件界面

            SECS II / GEM, OPC

            标准配置

            1 个工作仓


            配置选项

            - 单片 Load-Lock(可?。?, OES 或SIMS截止点探测器(可?。?/p>

            -单片 Load-Lock(可?。?;

            -组合式布局可至3个工作仓和晶圆载具;

            -OES 或SIMS截止点探测器(可?。?/p>

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